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Cibles physiques de tube du Ti Gr2 du dépôt en phase vapeur CGD pour Displayer
Lieu d'origine | Baoji, Shaanxi, Chine |
---|---|
Nom de marque | Feiteng |
Certification | GB/T19001-2016 idt ISO9001:2015 GJB9001C-2017 |
Numéro de modèle | Cible titanique de tube |
Quantité de commande min | Pour être négocié |
Prix | To be negotiated |
Détails d'emballage | Emballage sous vide dans le cas en bois |
Délai de livraison | Pour être négocié |
Conditions de paiement | T/T |
Capacité d'approvisionnement | Pour être négocié |
Catégorie | Gr2 | Emballage | Emballage sous vide dans le cas en bois |
---|---|---|---|
Couleur | Éclat avec le lustre métallique gris ou gris-foncé | Application | Semi-conducteur, électronique, displayer, etc. |
Point d'origine | Baoji, Shaanxi, Chine | Norme | ASTM B861-06 |
Certification | GB/T19001-2016 idt ISO9001:2015 GJB9001C-2017 | Forme | Tube |
Surligner | Cibles de tube du Ti Gr2 de CGD,Cibles physiques de tube de dépôt en phase vapeur,cibles de tube de 125mm pour Displayer |
133OD*125ID*2940L incluent le titane titanique Gr2 ASTM B861-06 de cible de tube de bride la métallisation sous vide de matériel de cible
Nom | Cible titanique de tube |
Norme |
ASTM B861-06 |
Paquet de transport |
Emballage sous vide dans le cas en bois |
Origine |
Baoji, Shaanxi, Chine |
Port de livrer |
Port de Xi'an, port de Pékin, port de Changhaï, port de Guangzhou, port de Shenzhen |
Taille | φ133*φ125*2940 (incluez la bride) |
La perspective de développement de la technologie de cible de tube est étroitement liée à la perspective de développement de la technologie de la couche mince dans des industries en aval. La technologie de métallisation sous vide est généralement divisée en deux types : dépôt en phase vapeur physique (PVD) et déposition en phase vapeur (CVD).
Le dépôt en phase vapeur physique (CGD) est une méthode de déposer directement le matériel de revêtement dans des atomes, des molécules ou des ions séparés dans la surface du substrat à l'aide de diverses méthodes physiques sous vide. La préparation du film dur est principalement par dépôt en phase vapeur physique. Elle peut réaliser le processus contrôlable de transfert des atomes des matériaux aux couches minces à l'aide des processus physiques tels que l'évaporation thermique des matériaux ou la pulvérisation des atomes sur la surface du matériau par bombardement d'ion. La technologie physique de dépôt en phase vapeur a les avantages de la bonne adhérence entre le film et le substrat, l'uniforme et le film dense, l'épaisseur de film contrôlable, la largeur large de cible, le grand choix de pulvérisation, le dépôt de couche épaisse, la préparation stable de film d'alliage et la bonne répétabilité. En même temps, la technologie physique de dépôt en phase vapeur peut être employée comme technologie transformatrice finale de coupeur à grande vitesse de la couche mince de carbure en acier et cimenté, parce que la température de traitement peut être commandée en-dessous de 500 degrés de Celsius. L'application de la technologie physique de dépôt en phase vapeur peut considérablement améliorer la performance de coupure des outils de coupe. En développant la haute performance et le haut équipement de fiabilité, ses champs d'application ont été également augmentés, particulièrement dans l'acier à coupe rapide, le carbure cimenté et des outils de coupe en céramique.
L'application de la technologie physique de dépôt en phase vapeur peut considérablement améliorer la représentation de coupure des outils de coupe. En développant la haute performance et le haut équipement de fiabilité, ses champs d'application ont été également augmentés, particulièrement dans l'acier à coupe rapide, le carbure cimenté et des outils de coupe en céramique.
Principaux avantages
Haute résistance de spécifications de faible densité
Personnalisation faite sur commande de demande
Excellente résistance à la corrosion
Bonne résistance thermique
Excellente représentation de basse température
Bonnes propriétés thermiques
Bas module élastique