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Le tube titanique dense du diamètre 125MM de Feiteng vise ASTM B861-06A
Lieu d'origine | Baoji, Shaanxi, Chine |
---|---|
Nom de marque | Feiteng |
Certification | GB/T19001-2016 idt ISO9001:2015; GJB9001C-2017 |
Numéro de modèle | Cible titanique de tube |
Quantité de commande min | Pour être négocié |
Prix | To be negotiated |
Détails d'emballage | Emballage sous vide dans le cas en bois |
Délai de livraison | Pour être négocié |
Conditions de paiement | T/T |
Capacité d'approvisionnement | Pour être négocié |
Point d'origine | Baoji, Shaanxi, Chine | Brand name | Feiteng |
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Numéro de type | Cible titanique de tube | Emballage | Emballage sous vide dans le cas en bois |
Spécifications | ASTM B861-06 | Catégorie | Gr2 |
Certification | GB/T19001-2016 idt ISO9001:2015; GJB9001C-2017 | Taille | φ133*φ125*2140 |
Surligner | Cibles titaniques denses de tube de Dia125MM,Cibles titaniques denses de tube de Feiteng,Cible titanique ASTM B861-06A de tube |
Cible titanique ASTM B861-06 de tube une cible titanique de métallisation sous vide 133OD*125ID*2140L Gr2
Nom d'article |
Cible titanique de tube |
Taille | φ133*φ125*2140 |
Catégorie | Gr2 |
Emballage | Emballage sous vide dans le cas en bois |
Port d'endroit | Port de Xi'an, port de Pékin, port de Changhaï, port de Guangzhou, port de Shenzhen |
Les propriétés du titane sont étroitement liées à la température, à la morphologie et à la pureté. Le titane dense est assez stable en nature, mais le titane de poudre peut causer la combustion spontanée en air. La présence des impuretés en titane affecte de manière significative l'examen médical, les propriétés chimiques et mécaniques et la résistance à la corrosion du titane.
La cible de revêtement est une source de pulvérisation. Dans des conditions appropriées, de divers films fonctionnels sont formés sur le substrat par la pulvérisation de magnétron, l'électrodéposition multi d'ion d'arc ou d'autres types de procédés de protection. Principe de magnétron pulvérisant :
Un champ magnétique orthogonal et le champ électrique sont ajoutés entre l'électrode de cible de pulvérisation (cathode) et l'anode, et le gaz inerte exigé (habituellement gaz de l'AR) est complété la chambre de vide poussé. Un champ magnétique du gauss 250~350 est formé sur la surface de cible de l'aimant permanent, formant un champ électromagnétique orthogonal avec le champ électrique à haute tension. 2) type de cible de pulvérisation de magnétron :
La cible de pulvérisation en métal, cible de revêtement de pulvérisation d'alliage, cible en céramique de pulvérisation, cible en céramique de pulvérisation de borure, cible en céramique de pulvérisation de carbure, cible en céramique de pulvérisation de fluorure, cible en céramique de pulvérisation de nitrure, cible en céramique d'oxyde, cible en céramique de pulvérisation de sélénite, cible en céramique de pulvérisation de siliciure, cible en céramique de pulvérisation de sulfure, cible en céramique de pulvérisation de tellurium d'autres cibles en céramique, cible en céramique de silice enduite par chrome (Cr-SiO), la cible d'INP (INP), plomb la cible d'arséniure (PbAs), cible d'arséniure d'indium (InAs).
Caractéristiques
1. Faibles densité et de haute résistance
2. adapté aux besoins du client selon les dessins requis par des clients
3. résistance à la corrosion forte
4. résistance thermique forte
5. résistance de basse température
6. résistance thermique