Cible OD127*ID458*10 de pulvérisation de Cr de magnétron de Feiteng

Cible de pulvérisation de chrome de la cible Pure>3N5 127*458*10 de plat de chrome

Produits connexes

Le chrome (chrome), le Cr de symbole chimique, le nombre atomique 24, dans la table périodique appartient le groupeⅵ B. Le nom d'élément vient du mot grec pour la « couleur, » parce que des composés de chrome sont colorés. Le métal gris en acier est le métal le plus dur en nature. Le chrome, à 0,01% dans la croûte terrestre, se range 17ème. Le chrome naturel libre est extrêmement rare et se produit principalement en chrome-avance Oregon. Dans l'industrie métallurgique, la chromite est principalement employée pour produire l'alliage de ferro-chrome et le métal de chrome. Le chrome est employé dans l'acier inoxydable, les pièces d'auto, les outils, la bande et la bande vidéo. Chrome a plaqué sur le métal peut être rouille-résistant, également connu comme Cordometer, fort et beau.
Le chrome est un oligoélément essentiel au corps humain. Le chrome trivalent est un élément sain, alors que le chrome hexavalent est toxique. Le taux d'absorption et d'utilisation de chrome inorganique par le corps humain est très bas, moins de 1%. Le taux d'utilisation du corps humain de chrome organique peut atteindre 10-25%. Le contenu du chrome en nourriture naturelle est bas et existe sous forme de trivalent.

La cible de revêtement est une source de pulvérisation qui forme de divers films fonctionnels sur le substrat par le magnétron pulvérisant, électrodéposition d'ion de multi-arc ou d'autres types de procédés de protection dans des conditions technologiques appropriées. Pour la mettre simplement, le matériel de cible est le matériel de cible du bombardement ultra-rapide de particules chargées. Une fois utilisées dans des armes à laser de grande énergie, les différentes densités de puissance, les différentes formes d'onde de sortie et les différentes longueurs d'onde du laser agissent l'un sur l'autre avec différentes cibles, massacre différent et des effets de destruction seront produits.

1) Principe de pulvérisation de magnétron :
Un champ magnétique orthogonal et le champ électrique sont ajoutés entre le poteau pulvérisé de cible (cathode) et l'anode, et le gaz inerte exigé (habituellement gaz de l'AR) est complété une chambre de vide poussé. L'aimant permanent forme un champ magnétique de 250 | 350 gauss sur la surface du matériel de cible, qui forme un champ électromagnétique orthogonal avec le champ électrique à haute tension. Sous l'action du champ électrique, l'ionisation des gaz de l'AR dans les ions positifs et les électrons, cible et a certaine pression négative, de l'action de la cible extrêmement de l'affecté par le champ magnétique et d'augmentation de la probabilité fonctionnante d'ionisation des gaz, forment un plasma à haute densité près de la cathode, ionique à argon sous l'action de la force de lorentz, vitesse pour voler sur la surface de cible, bombardant la surface de cible à une grande vitesse, les atomes pulvérisés sur la cible suivent le principe et la mouche de conversion d'élan à partir de la cible avec de l'énergie cinétique élevée au substrat pour le dépôt de film. Le magnétron pulvérisant est généralement divisé en deux sortes : C.C pulvérisant et pulvérisation de rf. Le principe de l'équipement de pulvérisation de C.C est simple, et la vitesse est rapide en pulvérisant le métal. Le rf pulvérisant est plus très utilisé, en plus de pulvériser les matériaux conducteurs, peut également pulvériser les matériaux non-conducteurs, mais également pulvérisation réactive pour préparer des oxydes, l'azote et le carbure et d'autres matériaux composés. Si la fréquence de la radiofréquence est augmentée, elle devient pulvérisation de plasma de micro-onde. Maintenant, le type plasma de la résonance de cyclotron d'électron (caisse enregistreuse électronique) de micro-onde pulvérisant est utilisé généralement.
2) type de cible de pulvérisation de magnétron :
Matériel de cible de pulvérisation en métal, matériel de revêtement de pulvérisation d'alliage de revêtement, matériel de revêtement en céramique de pulvérisation, matériaux de cible en céramique de pulvérisation de borure, matériel de cible en céramique de pulvérisation de carbure, matériel de cible en céramique de pulvérisation de fluorure, matériaux de cible en céramique de pulvérisation de nitrure, cible en céramique d'oxyde, matériel de cible en céramique de pulvérisation de séléniure, matériaux de cible en céramique de pulvérisation de siliciure, matériel de cible en céramique de pulvérisation de sulfure, matériel de cible en céramique de pulvérisation de tellurure, d'autres cibles en céramique, cible en céramique chrome-enduite d'oxyde de silicium (Cr-SiO), indium phosphatant la cible (INP), cible d'arséniure de plomb (PbAs), cible d'arséniure d'indium (InAs).

Caractéristiques

1. Faibles densité et de haute résistance
2. adapté aux besoins du client selon les dessins requis par des clients
3. résistance à la corrosion forte
4. résistance thermique forte
5. résistance de basse température
6. résistance thermique