Cibles titaniques non toxiques non magnétiques d'OD380*23mm

Les matériaux titaniques d'une pulvérisation de cible de la pulvérisation OD380*23 de la cible Gr2 ASTM B381-06 visent la pulvérisation

La cible de revêtement est une source de pulvérisation qui forme de divers films fonctionnels sur le substrat par le magnétron pulvérisant, électrodéposition d'ion de multi-arc ou d'autres types de procédés de protection dans des conditions technologiques appropriées. Pour la mettre simplement, le matériel de cible est le matériel de cible du bombardement ultra-rapide de particules chargées. Une fois utilisées dans des armes à laser de grande énergie, les différentes densités de puissance, les différentes formes d'onde de sortie et les différentes longueurs d'onde du laser agissent l'un sur l'autre avec différentes cibles, massacre différent et des effets de destruction seront produits. Par exemple, le revêtement évaporatif de pulvérisation de magnétron est revêtement de chauffage d'évaporation, film en aluminium, etc. changent le matériel de cible différent (tel que l'acier inoxydable en aluminium, de cuivre, le titane, la cible de nickel, etc.), peut obtenir le système différent de film (tel que le film dur, résistant à l'usure, anticorrosion superbe d'alliage, etc.).

Comparé à la technologie de revêtement humide, la technologie de métallisation sous vide a les avantages suivants :
(1) les couches minces et les substrats ont le large choix des matériaux, et l'épaisseur de film peut être commandée pour préparer les films fonctionnels avec de diverses fonctions.
(2) pour préparer les couches minces sous vide, environnement propre, et couches minces ne sont pas facilement souillés. Par conséquent, des films avec le bon densification, la grande pureté et le revêtement d'uniforme peuvent être obtenus.
(3) la force de collage entre le film et le substrat est bonne et le film est ferme.
(4) le revêtement sec ne produit pas le liquide de rebut ou la pollution environnementale.
La technologie de métallisation sous vide inclut principalement l'évaporation de vide, vide pulvérisant, électrodéposition d'ion de vide, dépôt de poutre de vide, déposition en phase vapeur et ainsi de suite. En plus de la déposition en phase vapeur, d'autres méthodes ont les caractéristiques communes suivantes :
(1) toutes sortes de technologies de revêtement exiger d'un environnement spécifique de vide pour assurer le mouvement des molécules de vapeur formées en cours d'évaporation de chauffage ou pulvérisation, pour ne pas être frappé, bloqué et non interféré par un grand nombre de molécules de gaz dans l'atmosphère, et pour éliminer les effets néfastes des impuretés dans l'atmosphère.
(2) toutes les technologies de revêtement exigent d'une source ou d'une cible de convertir les matériaux du film d'évaporation en gaz. En raison de l'amélioration continue de la source ou de la cible, la gamme de sélection des matériaux de cinéma a été considérablement augmentée. Le métal, les alliages en métal, les composés intermétalliques, la céramique ou les matières organiques peuvent être évaporés avec de divers films en métal et films diélectriques, et peuvent également être obtenus en évaporant différents matériaux en même temps.
(3) l'évaporation ou les matériaux pulvérisés de cinéma peut être exactement mesurée et commandée en cours de former les couches minces avec l'objet à plaquer, afin d'assurer l'uniformité de l'épaisseur de film.
(4) film peut exactement commander la composition et la fraction de masse du gaz résiduel dans la chambre de revêtement à l'aide d'une valve d'ajustement précis, empêchant l'oxydation du matériel de évaporation, ramenant la fraction de masse de l'oxygène à un minimum et remplissant de ce fait gaz inerte, qui est impossible pour le revêtement humide.
(5) en raison de l'amélioration continue de l'équipement de revêtement, le processus de revêtement peut être réalisé sans interruption, de ce fait considérablement n'améliorant la sortie du produit et aucune pollution à l'environnement pendant le processus de fabrication.
(6) parce que le film est fait dans le vide, la pureté du film est haute, la densité est bonne, et la surface est lumineuse sans traitement. Ceci fait les propriétés mécaniques et chimiques du film meilleur que celui du film electrodeposited et du film chimique.

1. Faible densité et haute résistance de spécifications
2. excellente résistance à la corrosion
3. bonne résistance à l'effet de la chaleur
4. excellente incidence à la propriété de cryogénie
5. non magnétique et non-toxique
6. bonnes propriétés thermiques
7. bas module d'élasticité