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Résistance thermique de cible de tube de semi-conducteur de métallisation sous vide
Lieu d'origine | Baoji, Shaanxi, Chine |
---|---|
Nom de marque | Feiteng |
Certification | GB/T19001-2016 idt ISO9001:2015 GJB9001C-2017 |
Numéro de modèle | Cible titanique de tube |
Quantité de commande min | Pour être négocié |
Prix | To be negotiated |
Détails d'emballage | Emballage sous vide dans le cas en bois |
Délai de livraison | Pour être négocié |
Conditions de paiement | T/T |
Capacité d'approvisionnement | Pour être négocié |
Couleur | Éclat avec le lustre métallique gris ou gris-foncé | Application | Semi-conducteur, électronique, displayer, etc. |
---|---|---|---|
Certification | GB/T19001-2016 idt ISO9001:2015 GJB9001C-2017 | Emballage | Emballage sous vide dans le cas en bois |
Norme | ASTM B861-06 | Point d'origine | Baoji, Shaanxi, Chine |
Catégorie | Gr2 titanique | Forme | Tube |
Surligner | cible de tube de semi-conducteur de 125mm,cible de tube du semi-conducteur 2940L,résistance thermique de cible de tube de 133mm |
133OD*125ID*2940L incluent le titane titanique Gr2 ASTM B861-06 de cible de tube de bride la métallisation sous vide de matériel de cible
Nom | Cible titanique de tube |
Norme |
ASTM B861-06 |
Paquet de transport |
Emballage sous vide dans le cas en bois |
Origine |
Baoji, Shaanxi, Chine |
Port de livrer |
Port de Xi'an, port de Pékin, port de Changhaï, port de Guangzhou, port de Shenzhen |
Taille | φ133*φ125*2940 (incluez la bride) |
La perspective de développement de la technologie de cible de tube est étroitement liée à la perspective de développement de la technologie de la couche mince dans des industries en aval. Avec l'amélioration du niveau de technologie dans l'industrie d'application des produits et des composants de membrane, la technologie de cible devrait également être changée. En outre, ces dernières années, l'affichage à panneau plat (FPD) a en grande partie remplacé l'affichage d'ordinateur et le marché de TV dominés par le tube cathodique (tube). Ceci augmentera également considérablement la demande technique et du marché des objectifs d'ITO. En outre, en termes de storage technology. La demande de la haute densité, du disque dur de grande capacité et du disque optique réinscriptible à haute densité continue à se développer, menant aux changements de la demande de l'industrie d'application des produits de cible. Après, nous présenterons les champs d'application principale des matériaux de cible et la perspective de développement des matériaux de cible dans ces domaines.
La métallisation sous vide est une méthode de chauffage et d'évaporation les matériaux métalliques ou non métalliques en air de vide poussé de former une couche mince sur la surface des pièces plaquées (métaux, semi-conducteurs ou isolateurs).
La métallisation sous vide est un aspect important d'application de vide. C'est une nouvelle technologie basée sur la technologie de vide, qui emploie des méthodes physiques ou chimiques pour absorber le faisceau d'électrons, la poutre moléculaire, le faisceau d'ions, la poutre de plasma, la radiofréquence et le contrôle magnétique pour fournir la recherche scientifique et la production pratique. En bref, la méthode de déposer ou de déposer le métal, l'alliage ou le composé dans le vide est effectuée sur l'objet enduit (substrat, substrat ou substrat), qui s'appelle la métallisation sous vide.
Principaux avantages
Haute résistance de spécifications de faible densité
Personnalisation faite sur commande de demande
Excellente résistance à la corrosion
Bonne résistance thermique
Excellente représentation de basse température
Bonnes propriétés thermiques
Bas module élastique