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Cible titanique électronique de tube d'ASTM B861-06 A

  • ASTM B861-06 A Electronic Titanium Tube Target
  • ASTM B861-06 A Electronic Titanium Tube Target
  • ASTM B861-06 A Electronic Titanium Tube Target
  • ASTM B861-06 A Electronic Titanium Tube Target
Lieu d'origine Baoji, Shaanxi, Chine
Nom de marque Feiteng
Certification GB/T19001-2016 idt ISO9001:2015 GJB9001C-2017
Numéro de modèle Cible titanique de tube
Quantité de commande min Pour être négocié
Prix To be negotiated
Détails d'emballage Emballage sous vide dans le cas en bois
Délai de livraison Pour être négocié
Conditions de paiement T/T
Capacité d'approvisionnement Pour être négocié
Détails sur le produit
Forme Tube Application Semi-conducteur, électronique, displayer, etc.
Emballage Emballage sous vide dans le cas en bois Point d'origine Baoji, Shaanxi, Chine
Catégorie Gr2 Certification GB/T19001-2016 idt ISO9001:2015 GJB9001C-2017
Couleur Éclat avec le lustre métallique gris ou gris-foncé Norme ASTM B861-06
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ITO Tube Target titanique électronique

,

ASTM B861-06 ITO Tube Target

,

cible titanique de tube de 2940mm
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Description de produit

133OD*125ID*2940L incluent le titane titanique Gr2 ASTM B861-06 de cible de tube de bride la métallisation sous vide de matériel de cible

Nom Cible titanique de tube
Norme

ASTM B861-06

Paquet de transport

Emballage sous vide dans le cas en bois

Origine

Baoji, Shaanxi, Chine

Port de livrer

Port de Xi'an, port de Pékin, port de Changhaï, port de Guangzhou, port de Shenzhen
Taille φ133*φ125*2940 (incluez la bride)

 

La perspective de développement de la technologie de matériel de cible est étroitement liée à la perspective de développement de la technologie de la couche mince dans des industries en aval. Avec l'amélioration technologique des industries appliquées dans des produits ou des composants de la couche mince, la technologie de cible devrait également être changée. Dans toutes les industries d'application, l'industrie de semi-conducteur exige les conditions de qualité les plus rigoureuses pour des films de pulvérisation de cible. Maintenant les 300) gaufrettes de silicium de 12 pouces (ont été fabriquées, et la largeur de l'interconnexion diminue. Les fabricants de gaufrette de silicium exigent la pureté de grande taille et grande, la basse ségrégation et le grain fin pour la cible, qui exige que le matériel de cible a une meilleure microstructure. Le diamètre et l'uniformité des particules en cristal ont été considérés comme facteurs clé affectant le taux de dépôt de films. L'écran plat (FPD) a été sur le marché pour des moniteurs et des téléviseurs d'ordinateur dominés par les tubes cathodiques (tube) au cours des années. Il conduira également la demande de technologie et de marché des cibles d'ITO. De nos jours, il y a deux genres de cibles d'iTO. On est l'agglomération de l'oxyde nano d'indium et la poudre d'oxyde de bidon, l'autre est cible d'alliage de bidon d'indium. Les couches minces d'ITO peuvent être produites par la pulvérisation réactive de C.C, mais la surface de cible oxydera et affectera le taux de pulvérisation, et il n'est pas facile d'obtenir la grande cible d'or. En termes de storage technology, le développement du disque dur de haute densité et de grande capacité exige un grand nombre de matériel géant de film de magnétorésistance. Le film composé multicouche de CoF~Cu est très utilisé en structures géantes de la couche mince de magnétorésistance de nos jours.

 

Principaux avantages
Haute résistance de spécifications de faible densité
Personnalisation faite sur commande de demande
Excellente résistance à la corrosion
Bonne résistance thermique
Excellente représentation de basse température
Bonnes propriétés thermiques
Bas module élastique

 

 

Étiquettes:

Cibles du tube GBT19001

cible de métallisation sous vide de 125mm

ASTM B861-06 ITO Tube Target

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